Teknologi Rangkaian Terintegrasi

TEKNOLOGI MIKROELEKTRONIKA

TUJUAN PEMBELAJARAN
Mahasiswa Memahami:

1. perkembangan Teknologi Mikroelektronika
2. tenologi pengolahan divais IC
3. bahan semikonduktor
4. proses difusi dan profil impuriti
5. proses fotoligrafi
6. struktur divais transistor, dioda, kapasitor, resistor
7. fabrikasi IC bipolar/IC MOS
8. struktur dan tataletak di dalam IC

KOMPETENSI
Mahasiswa memahami:

1. bahan semikonduktor
2. proses difusi dan profil impuriti
3. fabrikasi IC bipolar/IC MOS

MATERI POKOK
Kemajuan teknologi mikroelektronika dari transistor diskrit germanium/silikon di masa lalu sampai galium arsenida di masa depan, bahan semikonduktr, proses difusi dan profil impuriti, fotolitografi, proses IC bipolar dan IC MOS, struktur transistor, dioda, kapasitor, resistor, disain tataletak di dalam IC, penugasan.

PUSTAKA

1. S. Reka Rio, Masamori Iida, FISIKA SEMIKONDUKTOR, 1980, Pradnya Paramita, Jakarta
2. Hamilton, Howard, BASIC INTEGRATED CIRCUIT ENGINEERING, 1975, McGraw-Hill Kogaakusha Ltd, Tokyo
3. Ruska, MICROELECTRONIC PROCESSINR, 1988, McGraw-Hill Book Co, Singapore
4. Herbst, MONOLITHIC INTEGRATED CIRCUIT, 1985, Clarendon Press, Oxford
5. Sze, YLSI TECHNOLOGY, 1984, McGraw-Hill Book Co, Singapore

SATUAN ACARA PERKULIAHAN Semester Genap

Minggu #01

Minggu #02

Minggu #03

Minggu #04

Minggu #05

Minggu #06

Minggu #07

Minggu #08

Minggu #09 Ujian Tengah Semester

Minggu #10

Minggu #11

Minggu #12

Minggu #13

Minggu #14

Minggu #15

Minggu #16

Minggu #17

Minggu #18 Ujian Akhir Semester

Minggu #19